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            Eksma 高反射鍍膜

            簡要描述:Eksma 高反射鍍膜
            多層介電高反射率(HR)鍍膜是用于在AOI = 0°或45°時在特定的激光線波長處實現(xiàn)較高反射率的疊層。我們提供226 nm至2100 nm的HR激光線鍍膜。

            • 產(chǎn)品品牌:Eksma
            • 廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
            • 更新時間:2026-02-07
            • 訪  問  量:1423

            詳細(xì)介紹

            品牌Eksma價格區(qū)間面議
            組件類別光學(xué)元件應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子/電池,綜合

            Eksma 高反射鍍膜




            Eksma 高反射鍍膜

            介電多層高反射率鍍膜是用于在AOI = 0°或45°時在特定的激光線波長處實現(xiàn)較大可能反射率的疊層。

            產(chǎn)品介紹

            多層介電高反射率(HR)鍍膜是用于在AOI = 0°或45°時在特定的激光線波長處實現(xiàn)較高反射率的疊層。我們提供226 nm至2100 nm的HR激光線鍍膜。

            激光線高反射率鍍膜適用于外部光束處理應(yīng)用,在這些應(yīng)用中,甚至可能會有很小的損失。

            請發(fā)送帶有鍍膜和基材代碼的定制產(chǎn)品請求,以獲取報價。對于基材,請參閱我們的標(biāo)準(zhǔn)未鍍膜激光窗口部分。

            EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
            EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機(jī)械,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
            EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
            公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證。 通過嚴(yán)格的檢查程序,質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾,我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認(rèn)證。 必維檢驗集團(tuán)(Bureau Veritas)頒發(fā)的認(rèn)證。
            EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴(kuò)展制造能力。
            公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

            產(chǎn)品型號

            高反射率激光線鍍膜

            鍍膜型號

            波長

            反射率(%)

            推薦

            損傷

            AOI=0°


            AOI=45°


            nm


            AOI=0°

            AOI=45°

            基材

            閾值

            1007-i0

            1007-i45

            226

            >99

            >99

            UVFS

            1 J/cm2
            in 10 ns

            1009-i0

            1009-i45

            248

            >99

            >99

            UVFS

            1.5 J/cm2
            in 10 ns

            1011-i0

            1011-i45

            266

            >99.5

            >99

            UVFS

            1.5 J/cm2
            in 10 ns

            1013-i0

            1013-i45

            308

            >99.5

            >99.2

            UVFS

            1.5 J/cm2
            in 10 ns

            1015-i0

            1015-i45

            325

            >99.5

            >99.2

            UVFS

            1.5 J/cm2
            in 10 ns

            1017-i0

            1017-i45

            337

            >99.7

            >99.5

            UVFS

            1.5 J/cm2
            in 10 ns

            1019-i0

            1019-i45

            355

            >99.7

            >99.5

            UVFS

            1.5 J/cm2
            in 10 ns

            1021-i0

            1021-i45

            400

            >99.7

            >99.5

            UVFS

            1.5 J/cm2
            in 10 ns

            1023-i0

            1023-i45

            473

            >99.7

            >99.5

            UVFS, BK7

            1.5 J/cm2
            in 10 ns

            1024-i0

            1024-i45

            488-515

            >99.7

            >99.5

            UVFS, BK7

            1.5 J/cm2
            in 10 ns

            1025-i0

            1025-i45

            532

            >99.7

            >99.5

            UVFS, BK7

            5 J/cm2
            in 10 ns

            1027-i0

            1027-i45

            589

            >99.7

            >99.5

            UVFS, BK7

            5 J/cm2
            in 10 ns

            1029-i0

            1029-i45

            616

            >99.7

            >99.5

            UVFS, BK7

            5 J/cm2
            in 10 ns

            1030-i0

            1030-i45

            633

            >99.7

            >99.5

            UVFS, BK7

            5 J/cm2
            in 10 ns

            1031-i0

            1031-i45

            780

            >99.7

            >99.5

            UVFS, BK7

            5 J/cm2
            in 10 ns

            1032-i0

            1032-i45

            800

            >99.7

            >99.5

            UVFS, BK7

            5 J/cm2
            in 10 ns

            1033-i0

            1033-i45

            830

            >99.7

            >99.5

            UVFS, BK7

            5 J/cm2
            in 10 ns

            1034-i0

            1034-i45

            852

            >99.7

            >99.5

            UVFS, BK7

            5 J/cm2
            in 10 ns

            1037-i0

            1037-i45

            1064

            >99.7

            >99.5

            UVFS, BK7

            5 J/cm2
            in 10 ns

            1039-i0

            1039-i45

            1320

            >99.7

            >99.5

            UVFS, BK7

            1.5 J/cm2
            in 10 ns

            1045-i0

            1045-i45

            1550

            >99.7

            >99.5

            UVFS, BK7

            1.5 J/cm2
            in 10 ns

            1047-i0

            1047-i45

            2000

            >99

            >99

            UVFS, Sapphire

            1.5 J/cm2
            in 10 ns

            1049-i0

            1049-i45

            2100

            >99

            >99

            UVFS, Sapphire

            1.5 J/cm2
            in 10 ns

             

            高反射率寬帶涂層

            鍍膜型號

            波長

            反射率(%)

            推薦

            損傷

            AOI=0°


            AOI=45°


            nm


            AOI=0°

            AOI=45°

            基材

            閾值

            1106-i0

            1106-i45

            220-250

            >99

            >99

            UVFS

            1 J/cm2 in 10 ns

            1110-i0

            1110-i45

            260-340

            >99

            >99

            UVFS

            1 J/cm2
            in 10 ns

            1114-i0

            1114-i45

            350-450

            >99

            >99

            UVFS

            1 J/cm2
            in 10 ns

            1116-i0

            1116-i45

            420-680

            >99

            >99

            UVFS, BK7

            1 J/cm2
            in 10 ns

            1130-i0

            1130-i45

            600-900

            >99

            >99

            UVFS, BK7

            1 J/cm2
            in 10 ns

            1132-i0

            1132-i45

            720-880

            >99

            >99

            UVFS, BK7

            1 J/cm2
            in 10 ns

            1133-i0

            1133-i45

            760-840 nm

            >99

            >99

            UVFS, BK7

            1 J/cm2
            in 10 ns

            1142-i0

            1142-i45

            900-1100

            >99

            >99

            UVFS, BK7

            1.5 J/cm2
            in 10 ns

            1144-i0

            1144-i45

            1100-1400

            >99

            >99

            UVFS, BK7

            1.5 J/cm2
            in 10 ns

             EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
            EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機(jī)械,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
            EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
            公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證。 通過嚴(yán)格的檢查程序,質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾,我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認(rèn)證。 必維檢驗集團(tuán)(Bureau Veritas)頒發(fā)的認(rèn)證。
            EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴(kuò)展制造能力。
            公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

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