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            Eksma 激光檢測卡

            簡要描述:Eksma 激光檢測卡
            激光檢測卡提供即時,無褪色的操作,可實現(xiàn)激光的簡單對準,定位和安全目的的可視化。卡由耐用的塑料制成,并覆蓋可見光和近紅外(NIR)光譜范圍。

            • 產(chǎn)品品牌:Eksma
            • 廠商性質:經(jīng)銷商
            • 更新時間:2025-11-02
            • 訪  問  量:1468

            詳細介紹

            品牌Eksma價格區(qū)間面議
            組件類別光學元件應用領域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子/電池,綜合

            Eksma 激光檢測卡

            Eksma 激光檢測卡

            激光檢測卡提供即時,無褪色的操作,可實現(xiàn)激光的簡單對準,定位和安全目的的可視化。卡由耐用的塑料制成,并覆蓋可見光和近紅外(NIR)光譜范圍。

            產(chǎn)品介紹

            激光檢測卡提供即時,無褪色的操作,可實現(xiàn)激光的簡單對準,定位和安全目的的可視化。它們由0.8mm的耐用塑料制成,并具有44 x 54mm的感光區(qū)域,該區(qū)域一直延伸到卡的三個邊緣,以便于在激光對準過程中使用。卡的完整尺寸為86 x 54mm。

            Ø涵蓋可見光和近紅外光譜范圍

            Ø塑料,卡大小(86 x 54mm)

            Ø大傳感器區(qū)域(54 x 44mm)延伸到邊緣

            VIS&IR檢測卡

            990-0846激光檢測卡具有敏感的活動區(qū)域,可用于可視化弱功率激光束,以檢測光束反射或散射的IR激光。 要正確使用此卡,需要在可見/日光下對其充電。另外,由于來自活動區(qū)域的發(fā)射不是持久性的,因此用戶須四處移動卡才能獲得優(yōu)良的束斑亮度。

            Ø發(fā)射帶:580-750 nm

            Ø發(fā)射峰:660 nm

            Ø吸收帶:400-640 nm和800-1700 nm

            NIR檢測卡

            990-0847激光檢測卡不需要充電。即使在變暗的房間中用于連續(xù)波應用中,該輻射仍會持續(xù)存在。另外,當在具有足夠明亮光源的黑暗房間中使用有源區(qū)域時,可以從背面看到從激活的感光區(qū)域發(fā)出的熒光,或者可以通過照亮卡的背面來激活感光區(qū)域。這對于對齊兩個光束的重疊特別有用。

            Ø發(fā)射帶:520 – 580 nm

            Ø發(fā)射峰:550 nm

            Ø吸收帶:790 – 840 nm,870 – 1070 nm和1500 – 1590 nm

            產(chǎn)品型號

            CODE

            ABSORPTION BAND

            EMISSION PEAK

            NOTES

            990-0846

            400-640 nm + 800-1700 nm

            660 nm

            requires charging with day light

            990-0847

            790-840 nm + 870-1070 nm + 1500-1590 nm

            550 nm

            does not require charging

             

             

            990-0846
            VIS & IR Detection Card

            990-0847
            NIR Detection Card

            Absorption Bands

            400 - 640 nm
            800 - 1700 nm

            790 – 840 nm
            870 – 1070 nm
            1500 – 1590 nm

            Emission Bands

            Broadband 600 – 730 nm
            Peak @ 660 nm

            520 – 580 nm
            Peak @ 550 nm

            Persistence (stimulation removed)

            VIS: 0.5 – 3 s, dependent on ambient light
            IR: <0.5 s

            800 µs

            Minimum Stimulation Continuous
            1)

            <1 nW/cm2
            @ 450 nm
            <25 µW/cm2
            @ 950 nm

            <2 µW/cm2
            @ 808 nm
            <175 nW/cm2
            @ 960 nm
            <100 µW/cm2
            @ 1550 nm

            Minimum Stimulation Pulsed
            1)

            2 kW/cm2
            @ 1064 nm, 7 ns, 10 Hz

            250 kW/cm2
            @ 1064 nm, 7 ns, 10 Hz

            Maximum Stimulation Continuous

            100 W/cm2
            @ 512 nm

            100 W/cm2
            @ 1064 nm

            Maximum Stimulation Pulsed

            60 MW/cm2
            @ 1064 nm, 7 ns, 10 Hz

            35 MW/cm2
            @ 1064 nm, 7 ns, 10 Hz

            Typical Applications

            Ar-Ion, HeNe, HeCd, 880 nm, 960-980 nm laser diodes, Yb:KGW, Nd:YLF, Nd:Glass, Nd:YAG

            808 nm, 820 nm, 830 nm, 880 nm, 960-9680 nm laser diodes, Yb:KGW, Nd:YLF, Nd:Glass, Nd:YAG, 1550 nm telecommunications

             EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業(yè),醫(yī)學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
            EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
            EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。
            公司提供的所有組件均經(jīng)過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質量控制評估以及對新技術的承諾,我們不斷改進并提供優(yōu)良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發(fā)的認證。
            EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
            公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

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